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簡(jiǎn)要描述：PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁， 有幾種不同的電極設(shè)計(jì)，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。
產(chǎn)品型號(hào)：PlasmaStar 200/200 RIE 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-05-16訪 問 量：6125詳細(xì)介紹
型號(hào)： 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 200/200RIE
產(chǎn)地： 美國(guó)
品牌： Axic
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技術(shù)規(guī)格：
型號(hào) | PlasmaStar 100 | PlasmaStar 100RIE | PlasmaStar 200 | PlasmaStar 200RIE |
艙體尺寸 | 直徑254×深度356mm | 直徑200×深度280mm | 寬305×高305×深406mm | 寬305 ×高200×深406mm |
艙體材質(zhì) | 標(biāo)配為陽極氧化鋁艙體 | |||
常用氣體 | 空氣，氧氣，氫氣，氬氣，氮?dú)猓?/span>CF4，SF6等和其他混合氣體 | |||
氣路控制 | 標(biāo)配2路MFC，PlasmaStar 100多可選配4路， | 標(biāo)配2路MFC，PlasmaStar 200多可選配5路； | ||
控制系統(tǒng) | 電阻觸摸屏操作界面 | |||
程序控制 | PC觸屏控制，可編程序，無線存儲(chǔ)數(shù)據(jù) | |||
射頻頻率 | 13.56 MHz | |||
射頻功率 | 0~600W瓦之間距連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)匹配 | 0~1000W瓦之間距連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)匹配 | ||
電極設(shè)計(jì) | 標(biāo)準(zhǔn)圓柱形籠式電極； | 標(biāo)準(zhǔn)圓柱形籠式電極； 可選交替多層托盤電極； 可選RIE平面處理水冷平板電極 | ||
設(shè)備尺寸 | 寬800 x 深850 x 高525mm； | 寬1033 x 深850 x 高635mm； | ||
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：葉盛
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